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Ultrafeines hochreines Aluminiumoxid ist ein Grundpfeilermaterial in Bereichen wie elektronische Information, neue Energie, High-End-Fertigung und Biomedizin. Sein Anwendungswert liegt in der präzisen Kontrolle von Reinheit, Partikelgröße, Kristallform und Morphologie. Die Reinheit bestimmt die Leistungsobergrenze, die Partikelgröße bestimmt die Sinterung/Dispersion/Aktivität und die Kristallstruktur bestimmt die funktionellen Eigenschaften. Mit der Entwicklung von 5G, Festkörperbatterien, Halbleitern der dritten Generation und der Biomedizin wird die Nachfrage nach ultrahochreinem, monodispersem nanoskaligem und kugelförmigem Aluminiumoxid der Güteklasse 6N weiter wachsen. In diesem Artikel werden die praktischen Anwendungen von ultrafeinem und hochreinem Aluminiumoxidpulver erläutert.

Titandioxid ist ein vielseitiges Material, das in zahlreichen Branchen Anwendung findet, darunter Farben, Beschichtungen, Kunststoffe, Kosmetika und Pharmazeutika. Die Oberflächeneigenschaften von Titandioxid schränken jedoch häufig seine Leistung in verschiedenen Anwendungen ein. Um diese Einschränkung zu überwinden, haben Forscher mehrere Methoden zur Oberflächenmodifizierung von Titandioxid entwickelt. In diesem Artikel werden wir einige der effektivsten Methoden zur Oberflächenmodifizierung von Titandioxid untersuchen.

Kupfer unterscheidet sich von Metallen wie Aluminium und Nickel dadurch, dass es schwierig ist, auf seiner Oberfläche eine dichte und stabile intrinsische Passivierungsschicht zu bilden. Daher wird die freiliegende Kupferoberfläche kontinuierlich durch Sauerstoff und Wasserdampf in der Luft oxidiert und korrodiert. Je kleiner die Partikelgröße und je größer die spezifische Oberfläche des Kupferpulvers, desto einfacher ist es, schnell zu Produkten wie Kupferoxid (Cu2O) und Kupferoxid (CuO) zu oxidieren. Diese Oxidisolationsschicht verringert die Leitfähigkeit des Kupferpulvers erheblich und behindert die Sinterverbindung der Partikel, was zu einer Verschlechterung der Leistung der leitfähigen Paste führt.

Das Rasterelektronenmikroskop (SEM) ist eine hochauflösende Charakterisierungs- und Analysetechnik, die einen fokussierten Elektronenstrahl verwendet, um die Oberfläche einer Probe Punkt für Punkt abzutasten, Sekundärelektronen SE, Rückstreuelektronen BSE, charakteristische Röntgenstrahlen und andere Signale anzuregen und diese abzubilden, wodurch die Mikrostruktur, die chemische Zusammensetzung und die Mikrostruktur der Probenoberfläche ermittelt werden. In diesem Artikel werden häufig auftretende Probleme im SEM-Testprozess, ihre Ursachen und entsprechende Lösungen kurz vorgestellt:

Die antimikrobielle Wirkstofftechnologie auf Kupferbasis hat sich zu einer fortschrittlichen Materiallösung zur Bekämpfung schädlicher Mikroorganismen in verschiedenen Branchen entwickelt. Als professioneller Hersteller von Nanomaterialien entwickelt SAT NANO leistungsstarke antimikrobielle Wirkstoffprodukte auf Kupferbasis, indem es Nanokupferpartikel in flüssige Lösungen dispergiert und so effektive Materialoptionen für Beschichtungen, Textilien, Elektronik, chemische Anwendungen und biomedizinische Bereiche bietet.

Diese Forschung der Angewandten Chemie befasst sich mit der seit langem bestehenden „Blue Gap“ in der QLED-Technologie. Durch den Übergang von ultrakleinen, instabilen CdSe-Kernen zu einer riesigen Gradientenlegierungsstruktur erreichten die Forscher einen rekordverdächtigen EQE von 24 % für die blaue Emission.